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euv光刻机技术难点在哪里?
制造光刻机确实非常难，主要体现在技术复杂度高、精密制造要求苛刻、多领域协同难度大、环境控制要求严苛等方面，具体如下：技术复杂度高：以EUV光刻机为例，其光源产生过程极为复杂。EUV光刻机的光源来自XYmer，波长为15纳米，而这15纳米的光是从193纳米多次反射得到的。
EUV光刻机的技术难点主要集中在极紫外光源生成、光学系统制造、光刻胶研发和精密控制技术四大领域，每个环节都涉及纳米级的极限工艺控制。 极紫外光源产生难度极大：需用高能激光精确轰击液态锡滴，将其激发成等离子态以产生15nm波长的极紫外光。
光刻厂（以SSMB方案为例）主要绕过了光刻机在技术集成难度、单机性能依赖、产业链分散性以及市场风险控制方面的难点，具体分析如下： 绕过光刻机单机性能的极限挑战传统光刻机（如EUV）需通过极紫外光源、双工作台系统、高精度镜头等核心部件实现纳米级制程，其技术难点集中于单机性能的极致化。
目前为止世界上最光滑的物体(人造的或天然的均可)是什么?
1、在探索微观世界的极致光刻技术中，目前世界上最光滑的人造物体非EUV极紫外光刻机镜片莫属。这款神奇的镜片，其表面粗糙度已达到惊人的50皮米以下（即一万亿分之一米），这在最新一代EUV光刻机中更是达到了前所未有的20皮米均方根值，面精度仅有0.12纳米，足以让其表面平整度媲美中子星的表面粗糙度[1]。
2、石墨烯，石墨烯都是原子方面上十分光洁的物件，在科学上，其光洁水平乃至比前文提及的原子镜还需要高。由于石墨烯是通过碳原子构成的塑料薄膜，其非常非常贴近二维情况，原子中间的“凸凹不平”乃至不得超过原子的孔径，因而十分光洁。
3、目前世界上最光滑的人造物体是EUV极紫外光刻机的镜片。这款镜片具有以下特点：极高的表面平整度：其表面粗糙度已达到50皮米以下，在最新一代EUV光刻机中更是达到了前所未有的20皮米均方根值，面精度仅有0.12纳米，足以让其表面平整度媲美中子星的表面粗糙度。
4、接下来，我们介绍一下目前人类已知的最光滑的物体：量子稳定原子镜、石墨烯与中子星。 量子稳定原子镜这是目前人类能制造出来的最光滑的东西，量子稳定原子镜由50微米薄的硅晶体组成，硅晶体上覆盖有非常薄的铅层，其整个表面的起伏也不超过100纳米。
5、总的来说，目前为止，最光滑的物体是量子稳定原子镜。但我相信在不久的将来一定会发现比量子稳定原子镜更为光滑的物体，这为人类总是在不停的探索，总会有不停的发现。我认为这个世界上没有最，只有更，没有最好，只有更好才是人类该追求的东西，这也让我们期待明天会更好，而不是明天是最好的。
6、这两个单晶球的球面不完整性少于35毫微米。它们被称为目前世界上最圆、最光滑的物体。科学家将利用这两个球体来测量1千克有多少个硅原子。从而有助于定义新的重量单位，使重量单位与米制和秒制等基本单位相一致，米制和秒制单位是由物理常数定义的。
蔡司光学手工加工精度能达到多少纳米
来自光刻机镜片的参考蔡司生产的新一代EUV光刻机中的反射镜，其面形精度峰谷值能达到0.12纳米，表面粗糙度更是达到了原子级别的平坦程度。对于一个直径30厘米的镜片，蔡司可以确保其表面的高度差被控制在0.12纳米以内。
技术投入门槛高蔡司每年研发支出占营收15%以上，仅自由曲面加工技术就投入了12年研发周期。每片镜片的表面精度控制在纳米级别，这样的精密加工设备单台成本超过千万欧元。类似航空航天领域的光学检测技术转为民用，普通厂家根本无力承担转化成本。
保留445-450纳米有益蓝光（调节生物钟、提升情绪），同时阻断400-440纳米高能有害蓝光（可能损伤视网膜）。这种设计避免了过度防蓝光导致的色偏问题，而部分国产防蓝光镜片可能因技术局限，存在全频段蓝光阻断导致的视觉发黄现象。
光滑程度的具体表现最新EUV光刻机中最大反射镜直径达2米，表面最高起伏仅0.12纳米。若将其放大至地球尺寸（直径约12742公里），表面最高山峰不超过2毫米。这种精度已接近物理极限，与科幻小说《三体》中描述的绝对光滑“水滴”处于同一水平。
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文章不错《光刻机镜头误差不超过原子直径（光刻机的镜头有多精密?）》内容很有帮助